La photolithographie utilise trois étapes de processus de base pour transférer un motif d’un masque à une plaquette : enduire, développer, exposer. Le motif est transféré dans la couche de surface de la plaquette au cours d’un processus ultérieur. Dans certains cas, le motif de réserve peut également être utilisé pour définir le motif d’un film mince déposé.
Qu’est-ce que la photolithographie Comment ça marche ?
La photolithographie est un procédé de modelage dans lequel un polymère photosensible est sélectivement exposé à la lumière à travers un masque, laissant une image latente dans le polymère qui peut ensuite être sélectivement dissoute pour fournir un accès modelé à un substrat sous-jacent.
Pourquoi la photolithographie est-elle utilisée ?
La photolithographie est l’une des méthodes de microfabrication les plus importantes et les plus simples et est utilisée pour créer des motifs détaillés dans un matériau. Dans ce procédé, une forme ou un motif peut être gravé par exposition sélective d’un polymère sensible à la lumière à la lumière ultraviolette.
Pourquoi la lumière UV est-elle utilisée en photolithographie ?
La photolithographie permet l’encapsulation 3D de cellules dans des hydrogels en réticulant le prépolymère contenant des cellules sous lumière UV. Un photomasque est utilisé pour obtenir le motif souhaité [88].
Quelles sont les exigences en matière de photolithographie ?
En général, un processus de photolithographie nécessite trois matériaux de base, une source de lumière, un photomasque et un photorésist. Le photorésist, un matériau photosensible, a deux types, positif et négatif. La résine photosensible positive devient plus soluble après exposition à une source lumineuse.